南京光寶光電專注于激光元器件產品，包括激光晶體、激光光學和激光器件。基于核心產品定位，光寶光電逐步建立了專業(yè)的基礎硬件設施和技術研發(fā)團隊。光寶光電擁有提拉法、下降法和熔鹽法晶體生長爐，用于生產各類激光晶體。建設有雙面拋光、環(huán)拋為主的平面拋光設備，用于各類激光鏡片的生產。擁有多臺離子輔助沉積（IAD）鍍膜機，用于高損傷閾值的激光鍍膜。建設了激光器件研發(fā)和生產條件（百級和千級超凈廠房），用于激光器件的研發(fā)和生產。
長晶
長晶爐
- 提拉法晶體生長生長爐
- 溫度梯度法晶體生長爐
- 下降法晶體生長爐
提拉法晶體生長方法及生長爐
提拉法是目前使用最為廣泛的工業(yè)化晶體生長方法，其通過坩堝上方懸吊籽晶，從熔體中緩慢向上旋轉提拉的方式來生長晶體，晶體尺寸，生長速率精準可控，生長過程可直接觀察監(jiān)測，溫場條件靈活可變，用以匹配不同種類晶體的生長需求，可以適用于生長品類不同，尺寸各異的晶體。
其優(yōu)點在于：
1、適用性廣，是工業(yè)化生產使用最多的生長方式；
2、溫場條件靈活可變，適配不同種類晶體；（可根據生長晶體的不同物性來調整適當?shù)臏貓黾吧L工藝條件）
3、生長過程直觀可見；（可通過觀察視窗觀察到晶體生長的過程，方便過程監(jiān)控及工藝調整）；
4、可以生長直徑范圍在10-100mm,等徑長度超300mm的晶體；（匹配不同坩堝）
5、光寶光電科技有限公司采用提拉法先后生長過多個系列幾十種晶體，包括：稀土或過渡金屬離子摻雜YAG系列，YAP系列，硅酸鹽系列，藍寶石系列，釩酸鹽系列，鈮酸鹽系列，硼酸鹽系列等幾十種晶體。
溫度梯度法晶體生長爐
該方法是通過使用特制的發(fā)熱體，在縱向方向上形成穩(wěn)定的溫度梯度，在坩堝底部內置籽晶，從而實現(xiàn)晶體在坩堝內部自下而上的結晶生長。該方法生長過程中，坩堝靜置不動，內部熔體自然對流，更易于形成穩(wěn)定的生長界面，生長高品質晶體。
其特點是：
- 溫場梯度穩(wěn)定性好
- 溫度控制穩(wěn)定性高，控溫精度±0.1℃；
- 晶體批量生長的穩(wěn)定性好；
常用于生長鈦寶石，紅寶石，V：YAG等高摻雜濃度，摻雜離子均勻性要求高的晶體。
下降法晶體生長爐
該方法是在生長區(qū)構建一個穩(wěn)定的適用于結晶生長的溫度梯度，然后將坩堝緩慢的向下運動，穿過生長區(qū)，使得坩堝內部的原料在生長區(qū)內緩慢熔化、結晶生長，該方法突破了溫梯法固定溫區(qū)對坩堝尺寸的限制，能夠生長出尺寸更大，結晶高度更長的晶體。
其特點是：
- 穩(wěn)定性好；
- 靈活性好，可以匹配不同的坩堝，生長不同尺寸的晶體；
- 可以生長直徑更大，高度更高的晶體坯料；
- 可是適用于生長直徑35-200mm,高度到50-100mm尺寸的晶體；
公司采用該方法設備成功生長了氟化物系列晶體，如MgF2，LiF，BaF2，CaF2，CeF3等，并用于批量生長直徑6英寸的氟化物系列晶體。
切割
單線切割機
通過單根高速穩(wěn)定往復運轉的金剛線對固定在工作區(qū)間內的晶體坯料進行精密切割；常用于大塊晶體坯料的定向切割，開料；線切割通過切割線來切割晶體，晶體受力小，切割過程輕柔，不易開裂。
- 工作區(qū)間大：500*500*500mm
- 切割精度高：±0.05mm；
- 旋轉角精度：＜0.1°
多線切割機
通過多根高速穩(wěn)定往復運轉的金剛線對固定在工作區(qū)間內的晶體坯料進行精密切割，在其工作區(qū)間內，一次能夠同時切割幾十到幾千片同一厚度的產品，所以常被用于大批量產品的快速精密加工。
- 工作區(qū)間大：800*500*500mm
- 切割精度高：±0.05mm；
- 批量能力：~3000片/day
鍍膜
南京光寶光電科技有限公司專注于強激光（超強、超快、超短）光學薄膜與強激光光學元件元件研發(fā)與生產，擁有熱蒸發(fā)、電子蒸發(fā)（e-beam）和離子輔助沉積（IAD）等4臺專業(yè)鍍制強激光光學薄膜的高性能鍍膜機，配套超聲清洗設備，通過優(yōu)化薄膜的設計與蒸鍍工藝，可實現(xiàn)紫外266 nm-紅外5 um范圍內的激光光學薄膜鍍制，可用于諧振腔的高反射率（HR）涂層、寬帶HR和部分反射（PR）涂層、激光諧波分離器、二向色性薄膜和偏振光學薄膜。
此外，我們提供抗反射（AR）、雙帶和三帶AR激光薄膜、寬帶增透（BBAR）和金屬涂層。配套有紫外-可見-紅外分光光度計、激光損傷測試系統(tǒng)（1064/1535/2940nm）、激光平面干涉儀、摩擦磨損試驗機、光學顯微鏡、超清CCD工業(yè)成像儀、高低溫老化箱等設備，保證產品質量。
IAD-900-鍍膜機
- 離子源：VEECO_Mark_Ⅲ
- 電子槍：日本-JEOL -BS-60050EBS
- 膜厚儀：美國-INFICON-IC6
- 真空系統(tǒng)：φ550低溫泵
- 極限真空：2*10-5 Pa
- 最大鍍膜工件：dia 300mm
- 鍍膜波段：UV355-IR3500nm
IAD-1300-鍍膜機
- 離子源：中科院空間中心
- 電子槍：南京涉谷
- 膜厚儀：MXC-3D
- 真空系統(tǒng)：TK-500 擴散泵
- 極限真空：4*10-5 Pa
- 最大鍍膜工件：dia 500mm
- 鍍膜波段：IR1500-IR10600nm